Физики нашли новый способ измерения свойств поверхностного слоя материала

Технология для определения атомного строения поверхности различных материалов, разработанная профессорами физического факультета Техасского университета, помогает разглядеть структуру верхних слоёв, не затрагивая свойства нижних.

В журнале Physical Review Letters была опубликована статья с выводами исследования физиков, которые создали новую методику избирательного изучения поверхностной структуры материалов. В основу разработки был заложен физический процесс, известный как оже-опосредованное прилипание позитронов. Он характеризуется способностью позитронов состыковываться с верхними слоями материала, которая вызывает электронную эмиссию, то есть испускание электронов из различных тел.

Автор исследования Алекс Фэйрчайлд, научный сотрудник лаборатории позитронов, считает, что оже-опосредованное прилипание позитронов является уникальным явлением, так как оно позволяет измерить поверхностные атомные слои.

«Это отличается от типичных методов, таких как фотоэмиссионная спектроскопия, когда фотон проникает через несколько слоев в объем материала и, следовательно, содержит объединенную информацию о поверхностных и подповерхностных слоях. Наши результаты показали, как виртуальные фотоны, испускаемые после прилипания позитронов, взаимодействуют предпочтительно с электронами, которые простираются дальше в вакуум, чем с электронами, которые были более локализованы в атомном положении», — отметил соавтор исследования Варгезе Чираят.

0 комментариев