Технология для определения атомного строения поверхности различных материалов, разработанная профессорами физического факультета Техасского университета, помогает разглядеть структуру верхних слоёв, не затрагивая свойства нижних.

В журнале Physical Review Letters была опубликована статья с выводами исследования физиков, которые создали новую методику избирательного изучения поверхностной структуры материалов. В основу разработки был заложен физический процесс, известный как оже-опосредованное прилипание позитронов. Он характеризуется способностью позитронов состыковываться с верхними слоями материала, которая вызывает электронную эмиссию, то есть испускание электронов из различных тел.

Автор исследования Алекс Фэйрчайлд, научный сотрудник лаборатории позитронов, считает, что оже-опосредованное прилипание позитронов является уникальным явлением, так как оно позволяет измерить поверхностные атомные слои.

«Это отличается от типичных методов, таких как фотоэмиссионная спектроскопия, когда фотон проникает через несколько слоев в объем материала и, следовательно, содержит объединенную информацию о поверхностных и подповерхностных слоях. Наши результаты показали, как виртуальные фотоны, испускаемые после прилипания позитронов, взаимодействуют предпочтительно с электронами, которые простираются дальше в вакуум, чем с электронами, которые были более локализованы в атомном положении», — отметил соавтор исследования Варгезе Чираят.