Отечественные учёные создадут литограф для выпуска чипов с топологией 7 нм

Электронно-лучевой литограф представляет из себя механизированную установку для нанесения рисунка.

На сегодняшний день у отечественных разработчиков уже имеется стартовый образец, но вместе с тем учёные заявляют, что на разработку литографа уйдёт не меньше 6 лет. На начальной версии установки были получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм.

По сообщению инженеров, мероприятия по разработке и патенту отечественного оборудования будет проходить в несколько этапов. Так, например, в 2026 году появится "бета-машина", и на данном этапе версия будет усовершенствована всеми соответствующими девайсами, и ничто не помешает ей служить предприятиям в крупных промышленных масштабах.  

На третьем этапе, завершение которого планируется в 2026-2028 году, отечественный литограф получит более мощный источник излучения, улучшенные системы позиционирования и подачи и начнет полноценную работу.