Отечественные учёные создадут литограф для выпуска чипов с топологией 7 нм

Отечественные учёные создадут литограф для выпуска чипов с топологией 7 нм
👁 1K
Читайте нас: Яндекс новости

Источники: | engineeringrecruiting.org

Инженеры из Нижегородского Института прикладной физики РАН начали разработку литографа для производства микроэлектроники сверхмалого нанометража. Об этом сообщает издание "Медиа поток".
Отечественные учёные создадут литограф для выпуска чипов с топологией 7 нм
Автор:
involta technologies
involta technologies

Инженеры из Нижегородского Института прикладной физики РАН начали разработку литографа для производства микроэлектроники сверхмалого нанометража. Об этом сообщает издание "Медиа поток".

Электронно-лучевой литограф представляет из себя механизированную установку для нанесения рисунка.

На сегодняшний день у отечественных разработчиков уже имеется стартовый образец, но вместе с тем учёные заявляют, что на разработку литографа уйдёт не меньше 6 лет. На начальной версии установки были получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм.

По сообщению инженеров, мероприятия по разработке и патенту отечественного оборудования будет проходить в несколько этапов. Так, например, в 2026 году появится "бета-машина", и на данном этапе версия будет усовершенствована всеми соответствующими девайсами, и ничто не помешает ей служить предприятиям в крупных промышленных масштабах.  

На третьем этапе, завершение которого планируется в 2026-2028 году, отечественный литограф получит более мощный источник излучения, улучшенные системы позиционирования и подачи и начнет полноценную работу.

 

Наверх