Чтобы производить процессоры со стандартами проектирования менее 10 нанометров (нм), китайская компания Huawei подала патент на фотолитографическое устройство. Об этом сообщает "Российская газета".

В области микроэлектроники фотолитография создает определенное изображение на кремниевой подложке, после чего проявляется требуемая топология микросхем. Длина волны излучения влияет на размер получаемых элементов узора.

Согласно изданию Stimulus, ASML из Нидерландов до этого момента владела монополией в этом пространстве и наложила санкции на Huawei в ответ на давление США. Скорее всего, американское правительство таким образом намеревалось затруднить Китаю продвижение своей микроэлектронной промышленности.

Несмотря на это, у китайской компании все еще большие планы. Разрешение будет улучшено, а стандарты проектирования установки будут снижены, в частности, за счет увеличения когерентности излучения.