ASML, голландская компания, изучает возможность поставки в Китай уменьшенной версии своих литографических сканеров DUV для полупроводников, об этом сообщает 3dnews.

Эта модель будет соответствовать американским ограничениям и не потребует никаких разрешений. В частности, речь идет о системе литографии Twinscan NXT:1980Di — в настоящее время наименее мощной модели в каталоге компании ASML.

Последние экспортные правила США требуют от физических и юридических лиц получения лицензий перед отправкой инструментов и технологий, которые могут создавать микросхемы с непланарными транзисторами, соответствующие 14/16-нм или более современным технологическим процессам. Согласно последним голландским правилам экспорта, компания ASML должна получить экспортную лицензию перед поставкой сканеров Twinscan NXT:2000i китайским производителям.