Ученые из Санкт-Петербургского политехнического университета Петра Великого разработали технологический комплекс, который может заменить импортные аналоги для создания наноструктур, необходимых для работы микроэлектронного оборудования, сообщает РИА Новости.

Комплекс состоит из двух частей: промышленного образца установки безмасочной нанолитографии и установки плазмохимического травления кремния. Это поможет обеспечить технологический суверенитет России в области микроэлектроники.

Установка безмасочной нанолитографии позволяет получать изображение на подложке без использования шаблона, что значительно сокращает время и финансовые затраты. Стоимость отечественной установки составляет около 5 миллионов рублей, в то время как зарубежное оборудование стоит от 10 до 13 миллиардов рублей. Устройство полностью автоматизировано и снабжено специальным программным обеспечением.

Второй этап создания наноструктур – плазмохимическое травление по созданному на первом шаге рисунку. На установке можно также создавать кремниевые мембраны, которые будут использоваться в судовых датчиках избыточного давления.

Ученые планируют внедрить машинное обучение на обе установки и продолжить создание технологий для силовой электроники.